晶圆光刻胶硅晶片烤胶机
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产品介绍
ET系列晶圆光刻胶硅晶片烤胶机(热板)适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。热板温度稳定度高,重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
高精度晶圆烤胶机特点:
● 采用微机PID温度控制方式,可进行高精度的温度控制。
● 显示部分采用可视性好的背景光照明液晶画面。
● 标准装备了4种类型的定时功能(ON・OFF・ON/OFF・SET),程序控制功能最多可输入8个步骤的温度・时间。
● 运用数据记录通讯专用软件(CD-ROM)和通讯电缆(选配),可以简单地用计算机进行管理。
● 使用传感器(选配),可以直接控制试样的温度。
● 标准装备报警信号输出功能,在出现异常时可以停止其他设备和启动预备系统。
● 主体正面操作部分与顶板之间装备有安全灯(顶板温度处于 55℃以下)。
型号 |
BQ-1717 |
BQ-2525 |
使用温度范围 |
室温10~350℃ |
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温度显示精度 |
F.S ±2% |
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温度分布精度 |
±2℃ |
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传感器 |
K热电偶 |
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安全装置 |
自我诊断功能(上下限温度异常检测,加热器异常检测,传感器异常检测),异常加热放置装置(恒温器),过电流熔断器 |
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温度控制方式 |
微电脑PID控制 |
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温度显示方式 |
LCD数字显示(同时显示设定、测定温度、显示加热器输出线性图) |
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定时功能 |
设定范围为1分钟—99小时59分钟(1/min),支持传感器、上下限温度报警、报警信号输出,设定值存储,键锁定,自动调节功能。 |
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程序控制 |
可设置8个步骤,重复次数最多可达9999次。 |
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顶板材质 |
铝合金(陶瓷保护层) |
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分辨率 |
温度分辨率为0.1℃,时间分辨率为1分钟。 |
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加热尺寸 |
170×170mm |
250×250mm |
外形尺寸 |
240×280×70mm |
320×360×70mm |
加热功率 |
670W |
890W |
※温度分布精度是在室内环境温度25℃(无风、无负荷、内部传感器用)、设定温度为200℃时的参考值。 |
深圳邦企创源科技提供不同尺寸的烘胶设备(热板,烤胶机)。烤胶机主要用于光刻工艺中的旋转涂胶后的软烘,曝光后烘烤,显影后的坚膜,磨片粘片熔蜡等场景。