晶圆光刻胶硅晶片烤胶机

ET系列晶圆光刻胶硅晶片烤胶机(热板)适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。热板温度稳定度高,重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。 高精度晶圆烤胶机特点: ● 采用
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产品介绍

  ET系列晶圆光刻胶硅晶片烤胶机(热板)适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。热板温度稳定度高,重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。

硅晶片烤胶机

  高精度晶圆烤胶机特点:

  ● 采用微机PID温度控制方式,可进行高精度的温度控制。

  ● 显示部分采用可视性好的背景光照明液晶画面。

  ● 标准装备了4种类型的定时功能(ON・OFF・ON/OFF・SET),程序控制功能最多可输入8个步骤的温度・时间。

  ● 运用数据记录通讯专用软件(CD-ROM)和通讯电缆(选配),可以简单地用计算机进行管理。

  ● 使用传感器(选配),可以直接控制试样的温度。

  ● 标准装备报警信号输出功能,在出现异常时可以停止其他设备和启动预备系统。

  ● 主体正面操作部分与顶板之间装备有安全灯(顶板温度处于 55℃以下)。

晶圆烤胶机背面

型号

BQ-1717

BQ-2525

使用温度范围

室温10~350℃

温度显示精度

F.S ±2%

温度分布精度

±2℃

传感器

K热电偶

安全装置

自我诊断功能(上下限温度异常检测,加热器异常检测,传感器异常检测),异常加热放置装置(恒温器),过电流熔断器

温度控制方式

微电脑PID控制

温度显示方式

LCD数字显示(同时显示设定、测定温度、显示加热器输出线性图)

定时功能

设定范围为1分钟—99小时59分钟(1/min),支持传感器、上下限温度报警、报警信号输出,设定值存储,键锁定,自动调节功能。

程序控制

可设置8个步骤,重复次数最多可达9999次。

顶板材质

铝合金(陶瓷保护层)

分辨率

温度分辨率为0.1℃,时间分辨率为1分钟。

加热尺寸

170×170mm

250×250mm

外形尺寸

240×280×70mm

320×360×70mm

加热功率

670W

890W

※温度分布精度是在室内环境温度25℃(无风、无负荷、内部传感器用)、设定温度为200℃时的参考值。

烘胶设备厂家展示

深圳邦企创源科技提供不同尺寸的烘胶设备(热板,烤胶机)。烤胶机主要用于光刻工艺中的旋转涂胶后的软烘,曝光后烘烤,显影后的坚膜,磨片粘片熔蜡等场景。  


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